Toshiba et NuFlare reçoivent le 59e prix Okochi Memorial Grand Production

--Pour le développement et l'application de scripteurs de masque LSI --

Toshiba Corporation (Toshiba) (TOKYO : 6502) et NuFlare Technology, Inc. (NFT) (JASDAQ : 6256) se sont vu décerner le 59e prix Okochi Memorial Grand Production pour leur codéveloppement et leur application pratique des scripteurs de masque à faisceaux d'électrons. La cérémonie de remise des prix se tiendra le 22 mars à Tokyo.

Les circuits LSI sont fabriqués en utilisant des outils de lithographie pour projeter et rétrécir les configurations de circuits maîtres sur des galettes. Les configurations de circuits maîtres sont d'abord écrites sur des masques par des scripteurs de masque EB. Précédemment, la plupart des scripteurs de masque EB utilisaient des faisceaux ponctuels pour écrire les configurations, et il fallait que ceux-ci deviennent plus petits avec le dimensionnement des LSI. Ceci a augmenté le temps d'écriture pour les masques et est devenu le défi clé dans l'amélioration de la productivité de la fabrication de masques.

Ensemble, Toshiba et NFT ont développé un scripteur de masque EB pratique qui présente une précision et productivité d'écriture améliorées et utilise la méthode Variable Shaped Beam (VSB) (faisceaux de forme variable) d'écriture de masque, où les faisceaux d'électrons sont produits sous les formes désirées pour remplir les configurations.

Les sociétés ont développé une formule et un système de calcul inédits qui réalisent une correction plus rapide et plus précise de l'effet de proximité, le phénomène selon lequel les électrons dispersés du substrat de masque changent l'exposition des faisceaux et dégradent la précision de la configuration du masque. La technologie précédente nécessitait quelques jours de calculs pour obtenir l'erreur de calcul cible de moins de 0,5 %. La nouvelle formule réduit le temps de calcul à moins d'une heure, ce qui permet de coordonner les calculs en temps réel avec l'écriture de configuration (balayage de faisceaux et mouvements d'étage d'outil).

Le développement et l'application d'une source d'électrons à forte luminosité réduit le temps d'écriture du masque. Ceci a été réalisé en améliorant le matériau de la source d'électrons et ses conditions d'exploitation pour augmenter la luminosité – la quantité d'électrons émis pendant un certain temps. Ceci a fini par réduire de 95 % le temps requis pour exposer les faisceaux d'électrons sur le masque, réduisant ainsi de manière significative le temps d'écriture.

Les sociétés vont continuer à promouvoir une technologie innovante répondant à la demande croissante pour des scripteurs de masque d'une précision et d'une productivité accrues.

À propos de Toshiba

Toshiba est un fabricant leader mondial diversifié qui propose des solutions et commercialise des produits et systèmes électroniques et électriques sophistiqués. Le groupe Toshiba apporte innovation et imagination à un large éventail de secteurs : produits numériques (notamment téléviseurs LCD, PC ultraportables, solutions de vente au détail et produits multifonctions) ; dispositifs électroniques (y compris semi-conducteurs, produits et matériel de stockage) ; systèmes d'infrastructure industrielle et sociale (dont systèmes de production d'énergie, solutions communautaires intelligentes, systèmes médicaux, escaliers mécaniques et ascenseurs) et appareils ménagers.

Toshiba a été fondée en 1875 et exploite aujourd'hui un réseau mondial de plus de 550 sociétés consolidées, avec 202 000 employés à travers le monde et des ventes annuelles dépassant les 6,1 trillions de yens (74 milliards USD). Visitez le site Web de Toshiba à l'adresse www.toshiba.co.jp/index.htm

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Toshiba Semiconductor & Storage Products Company
Megumi Genchi/Kunio Noguchi, [phone]
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